我国半导体制造核心技术取得突破 核心技术实现自研

北京，2024年9月12日讯：近年来，中国在半导体制造领域持续发力，取得了令人瞩目的成就。特别是在高端半导体设备的研发与制造上，我国企业展现了强大的创新能力。最近，我国半导体制造核心技术取得突破，这项新的技术突破再次证明了中国在半导体产业中的实力与潜力。

核心技术实现自研

盛美半导体，一家以差异化竞争和自主创新为战略导向的企业，在边缘湿法刻蚀设备上实现了关键技术的突破。这种设备主要用于去除晶圆边缘的杂质，是提高芯片良品率的关键环节。此前，这一市场几乎完全由美国LAM和日本DNS等国外厂商垄断，但现在，盛美半导体已成功研发出国产设备，填补了国内市场的空白。

氢离子注入技术的革新

除此之外，另一项重要技术——氢离子注入技术，也在近期取得了重大突破。据国家电投介绍，氢离子注入是继光刻之后半导体晶圆制造中的另一个重要步骤，对于集成电路、功率半导体、第三代半导体等多种类型的半导体产品的制造至关重要。核力创芯（无锡）科技有限公司作为这项技术的先行者，不仅打破了国外的技术封锁，还成功交付了首批性能优化的芯片产品，标志着中国在半导体制造核心环节上迈出了坚实的一步。

加速国产化进程

这两项技术的进步，无疑为中国半导体产业的国产化进程注入了新的动力。长期以来，由于缺乏核心技术，中国在高端半导体设备市场上处于被动地位。然而，随着像盛美半导体和核力创芯这样企业的崛起，这一局面正在发生改变。它们不仅展示了中国企业在自主研发方面的决心和能力，也为其他同行树立了榜样。

未来展望

随着5G通讯、人工智能、物联网等新兴技术的发展，全球对于高性能芯片的需求将持续增长。在此背景下，中国半导体制造业正迎来前所未有的发展机遇。盛美半导体和核力创芯的成功经验表明，通过持续投入研发、坚持自主创新，中国企业完全有能力在国际舞台上与一流竞争对手抗衡。

业内人士普遍认为，未来几年将是决定中国半导体产业发展方向的关键时期。政府和企业应当加强合作，共同推动技术创新与产业升级，争取早日实现半导体产业链的全面自主可控。

此次核心技术的突破，是中国迈向半导体强国道路上的一个重要里程碑。我们有理由相信，在不久的将来，中国将能够在半导体领域占据更重要的地位，为全球经济的繁荣做出更大贡献。